国家纳米技术产业化基地于2000年12月6日由国家科技部正式批准成立。
基地坐落在天津经济技术开发区，规划占地面积2平方公里。自成立之日起，充分利用开发区良好的基础条件，通过进一步顶层设计，创建了人才、资金、技术、信息集成的综合研发平台，营造了良好的政策环境，与各大学、研究机构、大企业形成了联合攻关、动态联盟的科研新体制。基地采用国际化的新型科研管理机制，采取扁平化组织和网络化的信息交流结构，鼓励授权和信息分享。基地坚持国家目标与市场需求相结合的原则，根据《国家纳米科技发展纲要(2001—2010)》要求，围绕国家长远发展目标，结合国家经济发展和国家安全需求，进行战略定位和部署；重视和加强纳米技术公共研发平台的基础设施建设，率先建成国内最先进的定位于国际一流水平的纳米技术公共研发平台。
仪器设备：
场发射可变压力扫描电子显微镜
Field Emission Scanning Electron Microscope（Variable Pressure）
型号 1530VP
技术指标：
分辨率：1.0nm（高真空模式） 1.2nm（低真空可变压力模式）
最大放大倍数：90万倍
加速电压：0.1KV~30KV
束流：4pA~10nA
设备特点 ：
·热场发射电子枪，既可获得高分辨率，又可进行 EBSD晶体学取向成像分析。
·独特的镜筒设计和镜筒内环状探测器，得到大景深、高分辨率的图象。
·具有低真空模式，可直接观测绝缘样品。
·配备预抽样品室保证电子光学系统的高真空。
·配置： X射线能谱仪/电子背散射衍射分析系统。
功能 ：二次电子像，背散射电子像， X射线能谱分析，电子背散射衍射分析。
用途 ：各种固体材料（包括绝缘材料）表面形貌，微区成分分析和晶体学分析。
广泛应用于材料科学、电子工业、生命科学、地质矿产等领域。
场发射能量过滤透射电子显微镜
Field Emission Transmission Electron Microscope
with Ω Type Filter
型号 JEM-2010FEF
技术指标：
分辨率 点分辨率：0.23nm
条纹分辨率：0.10nm
电子能量分辨率 1.5eV（电子能量损失谱）
20eV（成像模式）
10eV（电子衍射模式）
最高加速电压 200kV
最高放大倍数 1,500,000×最小电子束斑尺寸 0.5nm
设备特点 ：
·热场发射电子枪，适用于材料的高分辨和高空间分辨的观察。
·配置Ω能量过滤器，可分别获得弹性散射和非弹性散射的信息。
·高分辨物镜极靴，可获得纳米尺度材料的形貌、结构和成分信息。
·配备高角度环形暗场探测器，可获得Z衬度像。
·配置超薄窗口的X射线能谱仪。
功能 ：纳米尺度的高分辨和高空间分辨观察。
用途 ：适用于先进材料微区、微量相的形貌、结构及成分的综合分析。
多晶X射线衍射仪
X-Ray Diffractometer System
型号D8 Advance
技术指标：
功率：3 kW
发生器稳定性：±0.005%(外压波动10%时)
测角仪角度重现性：0.0001°
设备特点 ：
·采用θ /θ 测角仪，样品平放，测量过程中，样品始终不动， 特别适合高低温等原位研究
·高低温附件，互换非常方便，与主机的集成性好
·丰富的应用和分析软件，多样的数据检索方式，开放的软件系统，极大地拓宽了分析和应用领域。
功能 ：物相结构分析
用途 ：
·物相定性与定量分析。
·粉末衍射图谱拟合修正晶体结构。
·点阵参数测定。
·最高1600度高温原位分析。
·晶粒尺寸及点阵畸变测定。
·液氮低温原位分析。
·结晶度分析。
·其它分析。
微区拉曼光谱仪
Microscope Raman Spectrometer
型号 RM 2000
技术指标 ：
波长响应范围：400~1000nm
光谱分辨率： 1cm -1
光谱范围：50~ 4000 cm -1
空间分辨率：1μm
共焦采样深度：1.5 ~2μm
设备特点 ：
·连续扫描功能，可一次连续获得宽波段的光谱，无需换光栅，不需要接谱，同时保证高分
辩率。
·在一次扫描中可同时获得同一点的拉曼信号和荧光信号。
·二维拉曼光谱直接成像，在整个样品区域内同时收集单波长图像。
·新型共焦系统，可连续调节共焦深度，稳定性好。
·双激光器自动切换。
· 2米长的光纤探头，可检测的样品范围更宽更广。
功能 ：拉曼光谱，点扫描，线扫描，面扫描，二维拉曼直接成像。
用途 ：无机、有机、生物、高分子物质拉曼光谱及微区成分分析。广泛应用于化学、物理、生物学、材料科学等领域。
傅立叶变换红外光谱仪
Fourier Transform Infrared Spectrometer
型号 NEXUS 870
技术指标 ：
光谱范围：11000-50cm-1 分辨率： 0.09 cm-1
波数精度：0.01 cm-1
扫描速度范围：0.0158-8.22 cm/sec
可调速度档次：22
空间分辩率：10μ
设备特点 ：
·电磁驱动步进扫描干涉仪，具有温度补偿，自动进行系统优化调整。
·扫描速度，软件控制，15档速度可调。
·永久准直光路，无需用户在使用过程中进行任何人工调整。
·光源：空气冷却，能量高，寿命长。
·无限校正光学系统可有效地消除红外光在物镜和聚焦镜上的球形像差。
功能 ：衰减全反射，漫反射，镜反射，快慢速扫描，自动点扫描、线扫描及面扫描。
用途 ：各类物质的化学结构分析、动力学研究及反应机理研究，广泛应用于有机化学、高分子学、材料科学等领域。
气相色谱-质谱联用仪
Gas Chromatography-Mass SpectrometrySystem(GC-MS)
型号 6890N/5973N
技术指标：
质量范围：M/Z 1.6~800υ
灵敏度：
EI源：全扫描（SCAN）1pg OFN，S/N>20:1；
选择离子（SIM）20fg OFN，S/N>10:1；
PCI源：全扫描（SCAN）100pg BZP，S/N>75:1；
选择离子（SIM）100fg BZP，S/N>10:1；
设备特点 ：
·6890 Plus GC：电子气路控制（EPC），7683自动进样器；
·毛细管柱直接导入型接口：便于仪器维护；
·电子轰击离子化模式（EI）：与标准质谱谱库完全匹配，准确鉴定目标和未知化合物；
·正化学电离离子化模式（PCI）：提供质子化分子离子并伴有加和离子出现，可以肯定确证分子量；
·标准涡轮泵：为EI及PCI模式提供快速抽真空；
·四极杆质量分析器：真正双曲面，整体式，石英镀金四极杆，独立控温；
·NIST98谱库；
用途 ：重要的化合物的分离、定性及定量分析手段，广泛应用于石油、化工、医药、环保、食品、轻工及天然产物等分析领域。
电感耦合等离子体发射光谱仪
High Resolution (HR)Inductively Coupled Plasma Spectrometer
型号 IRIS Intrepid
技术指标：
·波高频发生器：频 率：27.12MHz，频率稳定性：0.004%输出功率：最大2kw，功率稳定性：＜0.01%
·等离子体源及进样系统：可拆卸式、垂直炬管，进样系统满足无机、有机及氢氟酸、高盐样品分析；
·分光系统：中阶梯光栅+石英棱镜交叉二位分光系统，光室驱气保护，高精密恒温；
·检测器：高性能电荷注入检测器（CID），262144个检测单元，具有随机性及非破坏性读取的功能，连续波长覆盖，无“溢出”现象；
·数据系统：全自动控制仪器各种操作，具有定性、半定量、定量及智能摄谱功能，网络控制和通讯技术；
分析能力：
可检测元素数：＞70
检出限：ppb
稳定性：短期RSD ≤0.5%，长期RSD ≤2%
用途 ： 用于金属、合金、无机非金属等材料中常量、微量、痕量元素的定性、半定量、定量分析。
多功能扫描探针显微镜
MultiMode Scanning Probe Microscope
型号 Nanoscope 4
多种功能集于一体：
·扫描隧道显微镜（STM） ·原子力显微镜（AFM）
·摩擦力显微镜 ·静电力显微镜
·磁力显微镜 ·表面电势显微镜
性能特点 ：
·原子级的高分辨率： 横向：0.1nm
纵向：0.01nm
·可实时得到表面三维图象。
·多种测量模式可获得材料和表面的多种信息。
·可在大气、溶液等不同环境下工作。
控制器的最新改进：
·扫描速率比以前快十倍
·图像清晰度极大提高（4000´4000点）
·增加了Q-Control功能（Q为振动因子）
·增加了线同步和幅同步信号输出
·样品台可变温，最高 250℃
用途 ：
·原子级空间分辨的表面结构观测
·操纵原子和分子，用于纳米尺度的结构加工和超高密度信息存储
X射线小角散射纳米结构分析仪
Field Small Angle X-ray Scattering System
型号 NanoStar
技术指标：
功率：3 kW
发生器稳定性：±0.005%(外压波动10%时)
Hi-Star二维实时探测器
双Goebel镜平行光技术
自动进样器
功能 ： 纳米结构分析
应用 ：
·纳米颗粒研究：研究各种形态的纳米颗粒形
状，大小及分布
·纳米结构研究：如由重复单元组成的聚合物
长链分子
·纳米级微孔研究：可测定材料中微孔的形
状、大小和分布等
·高分子材料研究
·生物大分子研究：分子参数、形状参数、溶
液状态的构像和结构
·聚合物长周期的测定、片晶厚度等
